在快速发展的UV固化涂料、胶粘剂与光刻胶领域，光引发剂的选择直接决定印刷分辨率、固化速度与最终产品性能。SINOCURE® BCIM（2,2′-双(2-氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基-1,2′-双咪唑，CAS 7189-82-4）是一款专为高要求UV聚合应用设计的高效六芳基双咪唑（HABI）型光引发剂。
作为特种光引发剂的领先供应商，SINOCURE® BCIM 兼具高反应活性、优异的热稳定性，以及与电子级和可见光固化体系出色的相容性。
SINOCURE® BCIM 属于六芳基双咪唑（HABI）类光引发剂。在UV辐照下，HABI 分子发生可逆裂解，生成三芳基咪唑基（洛菲尔）自由基。这些自由基引发丙烯酸酯单体与低聚物的自由基聚合。该机理使其在多种UV与LED固化体系中，既能实现快速表面固化，也能实现深层聚合。
SINOCURE® BCIM 具有优异的化学稳定性、在常见单体与溶剂中良好的溶解性，以及较高的分解温度，与多种配方组分相容。
| 项目 | 指标 |
|---|---|
| 外观 | 黄色结晶粉末 |
| 含量（HPLC） | ≥99.0% |
| 熔点 | 195 – 205°C |
| 干燥失重 | ≤0.5% |
| 灰分 | ≤0.1% |
| CAS 号 | 7189-82-4 |
| 分子式 | C₄₂H₂₈Cl₂N₄ |
| 分子量 | 659.6 |
| UV 最大吸收 | 约 264 nm（可敏化至可见光区） |
数据基于典型测试结果。如需 COA，请向我们的技术团队索取。
与 α-羟基酮（如 1173）或酰基氧化膦（如 TPO、819）等常规光引发剂不同，HABI 型引发剂采用独特的可逆自由基生成机制。
在UV照射下，HABI 发生光化学裂解，生成两个三芳基咪唑基自由基。由于可在咪唑环及周围芳环体系上离域，这些自由基具有很高的稳定性。它们可以：
重要的是，在无光照条件下，自由基重新复合为 HABI 的过程是可逆的，从而在配方体系中提供优异的暗稳定性与较长的适用期。
BCIM 被广泛认可为印刷电路板（PCB）光刻胶、干膜光刻胶与图像艺术应用的高性能光引发剂。研究表明，基于 BCIM 的引发体系可替代 PCB 光刻胶中常用的常规 907/ITX 体系。
尽管 BCIM 的主要UV吸收峰在约 264 nm，但它可被合适的染料分子高效敏化，用于更长波长的曝光，包括 365 nm、405 nm，甚至可见光。
常见光敏剂包括：
当与染料敏化剂及氢供体（如 NPG、硫醇）配合时，BCIM 可形成高效的三组分光引发体系，适用于可见光激光成像应用。
由于 HABI 自由基在暗处会复合回原始二聚体，与某些单向裂解型引发剂相比，BCIM 具有更低的可萃取残留与优异的抗迁移性能。这对食品包装、电子封装与医疗应用尤为重要。
| 应用 | 说明 |
|---|---|
| PCB 液态光刻胶 | 用于印刷电路板的高分辨率成像 |
| 干膜光刻胶 | 优异的图形解析度与附着力，适用于 405 nm 激光直写 |
| UV 固化胶粘剂 | 固化快，对金属与塑料附着力好 |
| UV 油墨与涂料 | 适用于要求高反应活性与低黄变的胶印、丝网与柔版体系 |
| 先进封装 | 半导体与 PCB 组装的封装 |
| 全息与波导 | 精密成像与数据存储应用 |
SINOCURE® BCIM 是进口 HABI 型光引发剂可靠且高性价比的替代方案。凭借稳定的品质、可靠的生产与全球供应链，我们确保您的产线持续运转而不中断。
BCIM 的典型用量为配方总固含量的 0.1 – 5.0 重量%。为获得最佳性能，我们建议与以下组分配合：
| 特性 | 优势 |
|---|---|
| 高热稳定性 | 适用于更宽的加工窗口 |
| 优异的溶解性 | 易于加入树脂、活性单体与溶剂中 |
| 可逆自由基生成 | 低迁移、低可萃取物 |
| 良好的感光度 | 在干膜体系与光刻胶中高效固化 |
| 稳定的批次品质 | 可靠的生产产出 |
SINOCURE® BCIM 提供以下包装：
大批量合同可安排定制包装。
保质期：在推荐条件下储存为 12 个月。若储存更久，请在使前复检以确保性能。
中固化学集团（Sinocure Chemical Group）是特种光引发剂、UV单体、低聚物与添加剂的可靠制造商与供应商。我们以全面的技术数据、样品服务与定制规格，为研发团队提供支持。
准备在您的配方中测试 SINOCURE® BCIM 了吗？我们为合格项目提供免费样品，并可协助配方优化。
