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Sinocure® PSS-DBA (9,10-二丁氧基蒽, CAS 76275-14-4) 是一种经典高效的长波长光敏增感剂，对标替代 Anthracure UVS 1331、PSS 303 与 UVS 1550，专用于阳离子光固化。
9,10-二丁氧基蒽 (9,10-Dibutoxyanthracene)
76275-14-4
C22H26O2
322.44 g/mol
≥ 99.0 %
25公斤/桶装
Sinocure® MMPI-1447 (CAS 2795319-83-2) 是一种专为食品接触及高环保包装设计的高活性大分子低迁移光引发剂，具备超低气味与零迁移特性。
大分子低迁移光引发剂 (MMPI-1447)
2795319-83-2
C72H107N3O15S6
高粘度液体 / 树脂状膏体
25公斤/专用桶装
Sinocure® PSS-DEN (1,4-二乙氧基萘, CAS 27294-37-7) 是一种专为 UV-LED 阳离子固化体系设计的高效光敏增感剂，对标替代 Anthracure UVS-2171，在 365-405nm 波段具备优异增感效率且极低黄变。
1,4-二乙氧基萘 (1,4-Diethoxynaphthalene)
27294-37-7
C14H16O2
≥ 99.0 %
Anthracure UVS-2171
10kg / 20kg 纸箱装
Sinomer® MCHMA (甲基丙烯酸-1-甲基环己酯, CAS 76392-14-8) 是一种重要的脂环族甲基丙烯酸单体，专用于先进半导体光刻胶树脂合成。
甲基丙烯酸-1-甲基环己酯 (MCHMA)
76392-14-8 / 187884-37-3
C11H18O2
182.26 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤 或 200公斤/桶装
Sinomer® MADMA (甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷酯, CAS 177080-67-0) 是 193 nm (ArF) 光刻胶基体聚合物树脂最经典的核心单体之一。
甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷酯 (MADMA)
177080-67-0 / 249562-07-0
C15H22O2
234.33 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤/纸板桶 或 200公斤/桶装
Sinomer® IPAMA (甲基丙烯酸-2-异丙基-2-金刚烷酯, CAS 297156-50-4) 是一种高纯度 (≥99%) 先进半导体光刻胶单体，专用于集成电路微纳制程。
甲基丙烯酸-2-异丙基-2-金刚烷酯 (IPAMA)
297156-50-4 / 212580-06-6
C17H26O2
262.39 g/mol
≥ 99.0 %
25公斤/纸板桶 或 专用箱装
Sinomer® HAMA (CAS 115372-36-6) 是一种含有羟基金刚烷结构的极性单体，专用于 193 nm 光刻胶共聚树脂，调控显影溶出速率与硅片底材附着力。
甲基丙烯酸-3-羟基-1-金刚烷酯 (HAMA)
115372-36-6
C14H20O3
236.31 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤/纸板桶 或 专用箱装
Sinomer® ECPMA (甲基丙烯酸-1-乙基环戊酯, CAS 266308-58-1) 是一种高活性酸敏感光刻胶单体，专用于 193 nm 先进半导体芯片微纳光刻工艺。
甲基丙烯酸-1-乙基环戊酯 (ECPMA)
266308-58-1 / 266308-54-3
C11H18O2
182.26 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤 或 200公斤/桶装
