Sinomer® MADMA

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Sinomer® MADMA

甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷酯, CAS 177080-67-0, 经典ArF 193nm核心酸敏单体

Sinomer® MADMA (甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷酯, CAS 177080-67-0) 是 193 nm (ArF) 光刻胶基体聚合物树脂最经典的核心单体之一。

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规格:
基本信息:

产品型号:Sinomer® MADMA

化学名称:甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷酯 (2-Methyl-2-adamantyl Methacrylate / MADMA)

CAS 编号:177080-67-0 / 249562-07-0

分子式:C15H22O2

分子量:234.33 g/mol

产品概述:Sinomer® MADMA (CAS 177080-67-0) 是全球 ArF 193nm 化学放大光刻胶中应用最经典、用量最大的酸敏感离去基团单体。2-甲基-2-金刚烷酯结构兼具恰到好处的酸解活化能与极高的耐等离子体干法刻蚀性能,能够在低曝光剂量下快速发生脱保护反应,提供高对比度的图形边缘与极优的显影分辨率。

化学结构式:
Sinomer® MADMA 化学结构式
技术规格参数 (Standard):
外观性状白色均匀结晶粉末 (White crystal powder)
纯度指标 (HPLC)≥ 98.0 % (电子级 ≥ 99.0%)
熔点范围50.0 - 54.0 ℃
水分含量≤ 0.05 %
金属离子杂质≤ 10 ppb
特性与优势:

● 经典高效酸敏感脱保护基团:酸解反应稳定可控,提供出色的图形对比度与低 LER。
● 顶尖的耐干法刻蚀性能:高刚性金刚烷环赋予光刻胶图案卓越的等离子体刻蚀耐受性。
● 高玻璃化转变温度 (Tg):确保纳米微细图形在后烘烤过程中不产生线条塌陷与变形。

推荐应用领域:

● 193 nm (ArF) 半导体晶圆光刻制造正性光刻胶基体聚合物核心单体
● 逻辑芯片与 3D NAND / DRAM 存储芯片先进制程微纳加工
● 电子束光刻与极紫外 (EUV) 光刻胶树脂共聚开发

包装与储存:

● 包装规格:25公斤 纸板桶 / 200公斤 桶装。
● 储存条件:储存于干燥、清洁、阴凉通风库房内密闭避光冷藏保存。保质期 12 个月。

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