Sinomer® HAMA

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Sinomer® HAMA

甲基丙烯酸-3-羟基-1-金刚烷酯, CAS 115372-36-6, HAMA极性单体, 调控显影速率

Sinomer® HAMA (CAS 115372-36-6) 是一种含有羟基金刚烷结构的极性单体,专用于 193 nm 光刻胶共聚树脂,调控显影溶出速率与硅片底材附着力。

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规格:
基本信息:

产品型号:Sinomer® HAMA

化学名称:甲基丙烯酸-3-羟基-1-金刚烷酯 (3-Hydroxy-1-methacryloyloxyadamantane / HAMA)

CAS 编号:115372-36-6

分子式:C14H20O3

分子量:236.31 g/mol

产品概述:Sinomer® HAMA (CAS 115372-36-6) 是 193nm ArF 浸没式光刻胶树脂中不可或缺的极性调节单体。分子中刚性金刚烷骨架维持高耐刻蚀性与高 Tg,侧链羟基 (-OH) 提供适度的亲水极性,在提升光刻胶与硅片/底层抗反射涂层 (BARC) 结合力的同时,精确调控显影过程中四甲基氢氧化铵 (TMAH) 碱液的润湿溶出速率,杜绝浮渣 (Scum) 缺陷。

化学结构式:
Sinomer® HAMA 化学结构式
技术规格参数 (Standard):
外观性状白色结晶粉末 (White powder / crystal)
纯度指标 (HPLC)≥ 98.0 % (电子级 ≥ 99.0%)
水分含量≤ 0.1 %
灰分含量≤ 0.05 %
金属离子杂质≤ 10 ppb
特性与优势:

● 精确调控碱液显影溶出速率:极性羟基改善亲水润湿性,有效抑制显影微纳浮渣缺陷。
● 强硅片底材附着力增进:羟基与无机硅基底表面形成牢固结合,防止微纳线条倒塌。
● 保持优异的抗干法刻蚀性能:高刚性金刚烷环维持光刻胶整体卓越的耐刻蚀强度。

推荐应用领域:

● 193 nm ArF 浸没式与干式光刻胶基体树脂关键亲水极性单体
● 极紫外 (EUV) 先进微纳光刻感光树脂共聚单体
● 高端半导体封装光刻胶与高折光光学材料

包装与储存:

● 包装规格:25公斤 纸板桶 / 铝箔复合防潮袋装。
● 储存条件:储存于干燥、清洁、阴凉通风库房内密闭避光冷藏保存。保质期 12 个月。

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