Sinomer® IPAMA

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Sinomer® IPAMA

甲基丙烯酸-2-异丙基-2-金刚烷酯, CAS 297156-50-4, 先进半导体193nm光敏单体

Sinomer® IPAMA (甲基丙烯酸-2-异丙基-2-金刚烷酯, CAS 297156-50-4) 是一种高纯度 (≥99%) 先进半导体光刻胶单体,专用于集成电路微纳制程。

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规格:
基本信息:

产品型号:Sinomer® IPAMA

化学名称:甲基丙烯酸-2-异丙基-2-金刚烷酯 (2-Isopropyl-2-adamantyl Methacrylate / IPAMA)

CAS 编号:297156-50-4 / 212580-06-6

分子式:C17H26O2

分子量:262.39 g/mol

产品概述:Sinomer® IPAMA (CAS 297156-50-4) 是用于 193nm 浸没式光刻胶中的特种支链烷基金刚烷酸敏单体。空间位阻较大的异丙基侧基赋予其优异的酸解灵敏度与高对比度显影反差,与刚性金刚烷环协同,在实现超高纳米线宽分辨率的同时确保光刻胶图案耐受强等离子体刻蚀。

化学结构式:
Sinomer® IPAMA 化学结构式
技术规格参数 (Standard):
外观性状白色晶体或透明液体 (White crystal or liquid)
纯度指标 (HPLC)≥ 99.0 % (超纯电子级)
水分含量≤ 0.05 %
金属离子杂质≤ 10 ppb
特性与优势:

● 超高光学分辨率与锐利对比度:支链烷基空间位阻提升脱保护反应陡度,实现超细纳米线条加工。
● 顶尖的抗等离子体刻蚀性能:稠环金刚烷结构在晶圆干法刻蚀中保持极高图形保真度。
● 电子级超高纯度:极低金属离子杂质含量,杜绝晶圆缺陷。

推荐应用领域:

● 193 nm 浸没式 (ArFi) 高端半导体集成电路光刻胶树脂合成
● 超微纳干涉光刻与高密度微纳存储芯片图形加工
● 特种感光光阻剂与高端电子化学品开发

包装与储存:

● 包装规格:25公斤 纸板桶 / 专用铝箔密闭洁净袋。
● 储存条件:储存于干燥、清洁、阴凉库房内避光冷藏保存。保质期 12 个月。

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