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Sinomer® MCHMA (甲基丙烯酸-1-甲基环己酯, CAS 76392-14-8) 是一种重要的脂环族甲基丙烯酸单体，专用于先进半导体光刻胶树脂合成。
甲基丙烯酸-1-甲基环己酯 (MCHMA)
76392-14-8 / 187884-37-3
C11H18O2
182.26 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤 或 200公斤/桶装
Sinomer® MADMA (甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷酯, CAS 177080-67-0) 是 193 nm (ArF) 光刻胶基体聚合物树脂最经典的核心单体之一。
甲基丙烯酸-2-甲基-2-金刚烷酯 (MADMA)
177080-67-0 / 249562-07-0
C15H22O2
234.33 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤/纸板桶 或 200公斤/桶装
Sinomer® IPAMA (甲基丙烯酸-2-异丙基-2-金刚烷酯, CAS 297156-50-4) 是一种高纯度 (≥99%) 先进半导体光刻胶单体，专用于集成电路微纳制程。
甲基丙烯酸-2-异丙基-2-金刚烷酯 (IPAMA)
297156-50-4 / 212580-06-6
C17H26O2
262.39 g/mol
≥ 99.0 %
25公斤/纸板桶 或 专用箱装
Sinomer® HAMA (CAS 115372-36-6) 是一种含有羟基金刚烷结构的极性单体，专用于 193 nm 光刻胶共聚树脂，调控显影溶出速率与硅片底材附着力。
甲基丙烯酸-3-羟基-1-金刚烷酯 (HAMA)
115372-36-6
C14H20O3
236.31 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤/纸板桶 或 专用箱装
Sinomer® ECPMA (甲基丙烯酸-1-乙基环戊酯, CAS 266308-58-1) 是一种高活性酸敏感光刻胶单体，专用于 193 nm 先进半导体芯片微纳光刻工艺。
甲基丙烯酸-1-乙基环戊酯 (ECPMA)
266308-58-1 / 266308-54-3
C11H18O2
182.26 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤 或 200公斤/桶装
Sinomer® ECHMA (甲基丙烯酸-1-乙基环己酯, CAS 274248-09-8) 是一种性能优越的脂环族单体，专用于先进光刻胶成膜树脂与刻蚀保护树脂合成。
甲基丙烯酸-1-乙基环己酯 (ECHMA)
274248-09-8 / 174548-81-7
C12H20O2
196.29 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤 或 200公斤/桶装
Sinomer® EADMA (甲基丙烯酸-2-乙基-2-金刚烷酯, CAS 209982-56-9) 是 193 nm (ArF) 先进半导体光刻胶基体聚合物极其重要的核心酸敏单体。
甲基丙烯酸-2-乙基-2-金刚烷酯 (EADMA)
209982-56-9 / 249562-06-9
C16H24O2
248.36 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤/纸板桶 或 专用箱装
Sinomer® ADAMA (甲基丙烯酸-1-金刚烷酯, CAS 16887-36-8) 是一种具有笼状金刚烷骨架的高纯度半导体光刻胶单体，专用于 193 nm (ArF) 先进光刻胶基体树脂制造。
甲基丙烯酸-1-金刚烷酯 (ADAMA)
16887-36-8
C14H20O2
220.31 g/mol
≥ 98.0 %
25公斤/纸板桶 或 专用桶装
